中国芯片的孤胆英雄们(二)

光刻技术、刻蚀技术与薄膜沉积技术，是芯片制造流程的三大支柱技术，分别为对应光刻机、等离子体刻蚀机与薄膜机这三样设备，且三样缺一不可。

2004年，60岁的尹志尧从美回国，伴身相携的，除了为国建立芯片事业的满腔热血，还有15位硅谷资深华裔科学家。彼时，中国刚躲过全球经济危机的泥泞，挺过了突降的非典疫情，百废待兴。

就在尹志尧归国的一年前，中国电子报首次举办了2003年度中国半导体企业领军人物评选，被评选者里，包括“中芯国际集成电路制造（上海）有限公司总裁张汝京”。

尹志尧前半生的启航与归来历程，与张汝京非常相似：都在1980年代出海留学深造，都在美国有过20年工作经验。

比张汝京年长4岁的尹志尧出生于1944年的北平，曾外祖父是清末革命党人，父亲是一位在日本留学归来的电力化学专家。“师夷长技”的意识和决心，在尹家代代传承。