速度太快了！长春光机所公开5项光刻机技术，完全出乎西方的意料

速度太快了！长春光机所公开5项光刻机技术，完全出乎西方的意料
东北立功了！长春光机所公开5项光刻机技术，全是关键西方又酸了。说到东北大家肯定不陌生，这是国内老工业基地，也曾经有大批的科学技术研究机构，而这其中就有类似沈飞这样支撑其航空工业半壁的重点企业。这次我们的说的长春光机所是如此，在先进光学领域也是泰山北斗。而在中美双方关于芯片战博弈最紧张的时刻，长春光机所公开了5项相关技术，这些都是核心，估计这次是完全出乎了西方的意料。
根据社交媒体报道，最近长春光机所公布了一批2023年度省级科学技术奖的提名项目。如果仔细一看就会发现，其中至少有5项是光刻机相关的，而且是尖端的EUV光刻机的核心技术，这下子西方可又要酸了。
从提名名单来看，这些技术大多数和光刻机的光源核心相关，比如“低缺陷的氮化铝材料制备和深紫外光电器件”，还有“超高精度光刻机投影系统像差检测技术”，“极紫外光刻光学”，“EUV光刻机多层膜防污染和清洗技术”等。可以说这些都是制造光刻机必须的核心技术，而既然是已经进入申报奖项的流程，那么这些技术就不是在测试阶段，而是已经取得实际应用且具备相当的科学价值。由此不难看出最近国产新手机拆解出的芯片，很有可能和国产光刻机有关，看来这次芯片技术在制造端的突破已经是临门一脚了。
而这次也许又大大出乎了西方的预料，因为按照ASML的说法，最早他们认为就算把全套图纸了给我们，也造不出光刻，随后ASML有改口称中国不太可能单独制造顶级光刻机，但也不要太绝对，已经开始心虚了。随后又称进入中国市场是必须的，直到9月9日ASML的CEO表示妄图孤立中国是没希望的，我们太自以为是了。这其实就是国产新手机给了西方一个响亮的耳光，而长春光刻机公布的核心技术则是狠狠踢了西方的屁股，让他们知道了什么是傲慢的代价。
其实从技术上来看，国内有一个巨大的市场，同时国内也有世界上最完整的工业门类，如果需要整合技术突破光刻机，起步虽然难，但是加速却很快，一旦进入了快车道，那么其最终的发展水平肯定会让西方意想不到的。当然ASML也很清楚，现在即将突破关键技术的中国是无法进行孤立的，所有的芯片战科技战可能瞬间就是成为一纸空谈了。美国企图利用技术优势阻碍中国崛起的计划基本失败了。
总体来说，我们很难想象，现在看到的长春光机所的技术突破到底是从何时开始筹备布局的，可能很早之前我们就已经在未雨绸缪在高端芯片产业上最终要和西方碰撞，毕竟被卡脖子也不是一次两次了，西方向来就是你没有技术就制裁加高价，等你有立马降价争夺市场，这方面西方可谓是轻车熟路。
如果不是美国一意孤行的打科技战，或许这些技术的发展速度还没有那么快，是美国帮忙把这些项目的优先级提高了，可以说国产光刻机的快速发展，拜登的功劳是不小的。当然，国产EUV到底突破到多少纳米，产能如何，良品率怎么样，这一切还有待更多信息。但无论如何，西方这次是太多的没想到了。